למוצר הסופי איכות יציבה. זמן השהייה קצר של החומר לטחינה יכול להבטיח צורת חלקיקים אחידה ונזילות מעולה. תכולת הברזל המועטה קלה להסרה כדי להבטיח לובן וטוהר גבוהים.
המוצרים שלנו
טחנת רולר אנכית של HLM
פרמטר טכני
סדרת טחנת רולר אנכית HLM (תעשייה כימית)
| דֶגֶם | קוטר חציוני של שולחן השחזה (מ"מ) | קיבולת (טון/שעה) | גודל האכלה (מ"מ) | לחות המוצר | דקיקות (10-40 מיקרומטר) | לחות אבקה סופית (%) | הספק (קילוואט) |
| HLM10/2X | 800 | 1-3 | 0-15 | <5% | <97% | ≤1 | 55 |
| HLM16/2X | 1250 | 2-7 | 0-20 | <5% | <97% | ≤1 | 132 |
| HLM17/2X | 1300 | 3-12 | 0-25 | <5% | <97% | ≤1 | 180 |
| HLM19/2X | 1500 | 4-16 | 0-35 | <5% | <97% | ≤1 | 250 |
| HLM21/2X | 1700 | 6-24 | 0-35 | <5% | <97% | ≤1 | 355 |
| HLM21/3X | 1750 | 7-27 | 0-35 | <5% | <97% | ≤1 | 400 |
| HLM24/2X | 1900 | 7-28 | 0-35 | <5% | <97% | ≤1 | 450 |
| HLM29/3X | 2400 | 9-35 | 0-40 | <5% | <97% | ≤1 | 560 |
| HLM29/4X | 2400 | 10-39 | 0-40 | <5% | <97% | ≤1 | 630 |
| HLM30/2X | 2800 | 11-45 | 0-50 | <5% | <97% | ≤1 | 710 |
הערה: מדד טחינת חומרי גלם ≤18 קילוואט-שעה/טון.
טחנת רולר אנכית HLM למלט גס
| דֶגֶם | קוטר חציוני של שולחן השחזה (מ"מ) | קיבולת (טון/שעה) | לחות המוצר | עֲדִינוּת | הספק (קילוואט) |
| HLM30/2 | 2500 | 85-100 | <10% | R0.008<12% | 800/900 |
| HLM34/3 | 2800 | 130-160 | <10% | 1120/1250 | |
| HLM42/4 | 3400 | 190-240 | <10% | 1800/2000 | |
| HLM44/4 | 3700 | 190-240 | <10% | 2500/2800 | |
| HLM50/4 | 4200 | 240-300 | <10% | 3150/3350 | |
| HLM53/4 | 4500 | 320-400 | <10% | 3800/4200 | |
| HLM56/4 | 4800 | 400-500 | <10% | 4200/4500 | |
| HLM60/4 | 5100 | 550-670 | <10% | 5000/5400 | |
| HLM65/6 | 5600 | 600-730 | <10% | 5600/6000 |
הערה: קצב טחינת חומרי גלם ≤13 קילוואט-שעה/טון.
טחנת רולר אנכית HLM לקלינקר
| דֶגֶם | קוטר חציוני של שולחן השחזה (מ"מ) | קיבולת (טון/שעה) | לחות המוצר | שטח פנים ספציפי | הספק (קילוואט) |
| HLM24/2P | 1900 | 35-45 | ≤2% | 220-260 מ"ר/ק"ג (R0.08≤15%) | 560 |
| HLM26/2P | 2000 | 42-55 | ≤2% | 630 | |
| HLM30/2P | 2500 | 60-75 | ≤2% | 900 | |
| HLM34/3P | 2800 | 90-110 | <≤2% | 1400 | |
| HLM35/3P | 2800 | 130-160 | ≤2% | 2000 | |
| HLM42/4P | 3400 | 160-200 | ≤2% | 2500 | |
| HLM44/4P | 3700 | 190-240 | ≤2% | 3000 | |
| HLM45/4P | 3700 | 240-300 | ≤2% | 3800 | |
| HLM53/4P | 4500 | 300-380 | ≤2% | 4800 | |
| HLM56/4P | 4800 | 330-420 | ≤2% | 5300 |
הערה: קצב טחינת חומרי גלם ≤18 קילוואט-שעה/טון.
טחנת רולר אנכית של HLM לסיגים
| דֶגֶם | קוטר חציוני של שולחן השחזה (מ"מ) | קיבולת (טון/שעה) | לחות המוצר | שטח פנים ספציפי | הספק (קילוואט) |
| HLM26/S | 2000 | 15-18 | <15% | ≥420 מטר2/ק"ג | 560 |
| HLM30/2S | 2500 | 23-26 | <15% | 900 | |
| HLM34/3S | 2800 | 50-60 | <15% | 1800 | |
| HLM42/4S | 3400 | 70-83 | <15% | 2500 | |
| HLM44/4S | 3700 | 90-110 | <15% | 3350 | |
| HLM50/4S | 4200 | 110-140 | <15% | 3800 | |
| HLM53/4S | 4500 | 130-150 | <15% | 4500 | |
| HLM56/4S | 4800 | 150-180 | <15% | 5300 | |
| HLM60/4S | 5100 | 180-200 | <15% | 6100 | |
| HLM65/6S | 5600 | 200-220 | <15% | 6450/6700 |
הערה: מדד טחינת חומרי גלם ≤25 קילוואט-שעה/טון. קצב טחינת חומרי גלם ≤30 קילוואט-שעה/טון.
טחנת פחמן אנכית של HLM
| דֶגֶם | קוטר חציוני של שולחן השחזה (מ"מ) | קיבולת (טון/שעה) | לחות המוצר | דקיקות אבקת פחמן | הספק (קילוואט) |
| HLM10/2M | 800 | 3-5 | <15% | R0.08=10%-15% | 45/55 |
| HLM14/2M | 1100 | 7-10 | <15% | 90/110 | |
| HLM16/2M | 1250 | 9-12 | <15% | 110/132 | |
| HLM17/2M | 1300 | 13-17 | <15% | 160/185 | |
| HLM18/2M | 1300 | 14-19 | <15% | 185/250 | |
| HLM19/2M | 1400 | 18-24 | <15% | 220/250 | |
| HLM21/2M | 1700 | 23-30 | <15% | 280/315 | |
| HLM24/2M | 1900 | 29-37 | <15% | 355/400 |
| דֶגֶם | קוטר חציוני של שולחן השחזה (מ"מ) | קיבולת (טון/שעה) | לחות המוצר | דקיקות אבקת פחמן | הספק (קילוואט) |
| HLM28/2M | 2200 | 36-45 | <15% | R0.08=10%-15% | 450/500 |
| HLM29/2M | 2400 | 45-56 | <15% | 560/630 | |
| HLM30/2M | 2500 | 45-56 | <15% | 710/800 | |
| HLM34/3M | 2800 | 45-56 | <15% | 900/1120 | |
| HLM42/4M | 3400 | 45-56 | <15% | 1400/1600 | |
| HLM45/4M | 3700 | 45-56 | <15% | 1800/2000 | |
| HLM50/4M | 4200 | 45-56 | <15% | 2500/2800 | |
| HLM56/4M | 4800 | 45-56 | <15% | 3150/3500 |
הערה: מדד טחינת פחמן הארדגרוב 50 ~ 70
עיבוד
חומרים
חומרים רלוונטיים
טחנות טחינה של גווילין הונגצ'נג מתאימות לטחינת חומרים מינרליים לא מתכתיים מגוונים עם קשיות מוס מתחת ל-7 ולחות מתחת ל-6%, ניתן לכוונן את רמת הדקיקות הסופית בין 60-2500 רשת. חומרים רלוונטיים כגון שיש, אבן גיר, קלציט, פלדספר, פחם פעיל, בריט, פלואוריט, גבס, חרסית, גרפיט, קאולין, וולסטוניט, סיד חי, עפרת מנגן, בנטוניט, טלק, אסבסט, נציץ, קלינקר, פלדספר, קוורץ, קרמיקה, בוקסיט וכו'. אנא צרו קשר לקבלת פרטים.
סידן פחמתי
דולומיט
אֶבֶן גִיר
שַׁיִשׁ
טַלק
יתרונות טכניים
יעילות טחינה גבוהה יותר, צריכת אנרגיה נמוכה יותר. צריכת החשמל נמוכה ב-40% -50% מטחנת כדורים. ליחידה בודדת תפוקה גבוהה, והיא יכולה להשתמש בחשמל עמק.
הגנת הסביבה. לכל המערכת של טחנת הגלילים האנכית HLM יש רטט נמוך ורעש נמוך, היא אטומה ופועלת תחת לחץ שלילי, ללא דליפת אבק, ויכולה למעשה לממש סדנה נטולת אבק.
קלות תחזוקה, עלות תפעול נמוכה יותר. ניתן להוציא את גלגלת הטחינה מהמכונה באמצעות התקן הידראולי, מה שיוצר מקום גדול לתחזוקה. ניתן להשתמש בשני צידי מעטפת הגלגלת לחיי עבודה ארוכים יותר. הטחנה יכולה לפעול ללא חומר גלם על שולחן הטחינה, מה שמבטל את הקושי בהתנעה.
גלילים עם התקן לשליטה בגובה, שיכול למנוע רעידות חזקות שנגרמו עקב מחסור בחומר על השולחן. רכיב איטום גלילים חדש מבטיח איטום אמין מבלי לאטום את המפוח, מה שיכול להוריד את תכולת החמצן בטחנה ולמנוע אפשרות של פיצוץ.
הטחנה משלבת ריסוק, ייבוש, טחינה, מיון ושינוע חומרים בפעולה אוטומטית ורציפה אחת. מבנה קומפקטי דורש שטח עבודה קטן יותר, המהווה 50% מטחנת הכדורים. ניתן להתקין אותה בחוץ, ועלות בנייה נמוכה יותר יכולה לחסוך בהשקעה ראשונית.
רמה גבוהה של אוטומציה. הוא מאמץ את מערכת הבקרה האוטומטית PLC ויכול לממש שליטה מרחוק, קלות תפעול ותחזוקה, וחיסכון בעלויות עבודה.
בעל יכולת ייבוש גבוהה עם מגע ישיר של אוויר חם עם החומר בטחנה, לחות מקסימלית בהזנה היא עד 15%. ניתן לחסוך גם במכונת ייבוש נפרדת וגם באנרגיה למערכת הטחנה. הטחנה האנכית יכולה לספק את החומרים ברמות לחות שונות על ידי התאמת טמפרטורת האוויר החם.
מקרי מוצר
תוכנן ונבנה עבור אנשי מקצוע
- בהחלט אין פשרות על איכות
- בנייה חזקה ועמידה
- רכיבים באיכות הגבוהה ביותר
- נירוסטה מוקשה, אלומיניום
- פיתוח ושיפור מתמידים
מבנה ועקרון
כאשר טחנת הגלילים האנכית פועלת, המנוע מניע את המפחית כדי לסובב את החוגה, חומר הגלם מועבר למרכז החוגה ממזין הסיבובי של נעילת האוויר. החומר נע לקצה החוגה עקב השפעת הכוח הצנטריפוגלי ואז נטחן על ידי כוח הגליל ונמעך באמצעות סחיטה, טחינה וחיתוך. בו זמנית, האוויר החם נושב סביב החוגה ומגביר את החומר הטחון. האוויר החם מייבש את החומר הצף ומנשף את החומר הגס בחזרה לחוגה. האבקה הדקה תובא למיון, האבקה הדקה המותאמת תזרום החוצה מהטחנה ותיאסף על ידי אספן אבק, בעוד שהאבקה הגסה תיפול לחוגה על ידי להב המסווג ותיטחן שוב. מחזור זה הוא כל תהליך הטחינה.
טחנת גלילים אנכית של HLM משתמשת במודולים סטנדרטיים לתכנון וייצור התקן לחץ. ככל שהקיבולת עולה, מספר הגלילים יגדל (ניתן להשתמש ב-2, 3 או 4, מקסימום 6 גלילים) בתמורה ובשילוב מתאימים כדי להגדיר סדרות שונות של ציוד עם קיבולות שונות על ידי חלקים סטנדרטיים מינימליים כדי לעמוד בדרישות של חומרים, דקיקות ותפוקות שונות.
מערכת איסוף אבק ייחודית I
מערכת איסוף אבק יחידה II
מערכת איסוף אבק משנית
נשמח להמליץ לכם על דגם טחנת הטחינה האופטימלי כדי להבטיח שתקבלו את תוצאות הטחינה הרצויות. אנא שתפו אותנו בשאלות הבאות:
1. חומר הגלם שלך?
2. מידת הדיוק הנדרשת (רשת/מיקרומטר)?
3. קיבולת נדרשת (טון/שעה)?
